Ra mắt máy quang khắc E-Beam ‘Made in China’
- OFREZH EDITOR
- 21 thg 8
- 2 phút đọc
Trong nhiều năm, Trung Quốc bị tụt lại trong cuộc đua sản xuất chip vì không thể mua máy quang khắc EUV (Extreme Ultraviolet) – thiết bị tiên tiến nhất để chế tạo chip hiện đại. Do các lệnh hạn chế từ Mỹ và Hà Lan, hãng ASML (Hà Lan), nhà sản xuất duy nhất loại máy này, không được phép bán EUV cho Trung Quốc.

Hiện tại, Trung Quốc chỉ có thể mua máy quang khắc DUV (Deep Ultraviolet) với công nghệ cũ hơn. DUV dùng ánh sáng bước sóng 193nm, trong khi EUV chỉ 13,5nm (ngắn hơn 14 lần), giúp khắc được các mạch siêu nhỏ cần thiết cho chip dưới 7nm. Các hãng như TSMC và Samsung năm nay đã sản xuất hàng loạt chip ở tiến trình 2nm. Tiến trình càng nhỏ, mật độ bóng bán dẫn (transistor) càng cao, chip càng mạnh và tiết kiệm điện.
Để tự chủ hơn, Trung Quốc vừa tạo ra máy quang khắc chùm electron (e-beam) đầu tiên, tên Xizhi, do Đại học Chiết Giang phát triển. Máy này dùng chùm electron để khắc mạch lên tấm silicon, có thể tạo đường mạch rộng chỉ 8nm, độ chính xác 0,6nm – đạt chuẩn quốc tế. Tuy nhiên, e-beam không sản xuất hàng loạt nhanh như DUV hoặc EUV, nhưng rất hữu ích ở giai đoạn thử nghiệm. Xizhi cũng rẻ hơn so với máy nhập khẩu và đang thu hút sự quan tâm của nhiều công ty, viện nghiên cứu trong nước.







Bình luận